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异质结太阳能电池及其制备方法

申请号: CN202311619461.2
申请人: 天合光能股份有限公司
申请日期: 2023/11/30

摘要文本

本发明公开了一种异质结太阳能电池及其制备方法。制备方法包括如下步骤:对硅基底进行清洗制绒处理;在硅基底的两个表面分别制备本征非晶硅层;在正面本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在背面本征非晶硅层上制备P型掺杂层;采用RPD设备在P型掺杂层上制备背面含铟TCO种子层,利用PVD设备在背面含铟TCO种子层上制备背面无铟TCO薄膜;利用PVD设备在N型掺杂层上制备正面含铟TCO种子层,并在正面含铟TCO种子层上制备正面无铟TCO薄膜;以及分别制备背面电极、正面电极。本申请可以有效增加RPD与PVD结合设备的正常运行时间以及有效运行时间,增加设备有效产能,降低电池制造成本。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 异质结太阳能电池及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311619461.2
申请日 2023/11/30
公告号 CN117423781A
公开日 2024/1/19
IPC主分类号 H01L31/18
权利人 天合光能股份有限公司
发明人 李宏伟; 侯承利; 段誉; 杨广涛; 陈达明
地址 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号

专利主权项内容

关注微信公众号马克数据网 。1.一种异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:对硅基底进行清洗制绒处理;在硅基底的两个表面分别制备本征非晶硅层;在硅基底的正面本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在硅基底的背面本征非晶硅层上制备P型掺杂层;采用RPD设备在所述P型掺杂层上制备背面含铟TCO种子层,利用PVD设备在所述背面含铟TCO种子层上制备背面无铟TCO薄膜;利用PVD设备在所述N型掺杂层上制备正面含铟TCO种子层,并在所述正面含铟TCO种子层上制备正面无铟TCO薄膜;以及在所述背面无铟TCO薄膜上制备背面电极以及在所述正面无铟TCO薄膜上制备正面电极。