一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺
摘要文本
本发明属于电路板技术领域，尤其涉及一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺。该基于光刻工艺的图形转移设备包括图形转移件、蚀刻组件、清洗组件、防腐蚀材料制成的反应组件、防腐蚀材料制成的防护组件与防腐蚀材料制成的扰动机构，蚀刻组件包括分隔件与支撑板，反应组件包括两个反应件，防护组件包括有两个防护件，扰动机构包括两个扰动组件。防护件用于加快覆铜板的蚀刻速度，扰动件能够扰动反应件中的反应液，进而加快覆铜板的蚀刻速度，同时扰动件还能够自动改变反应液的流速，进而使得反应液能够冲击防护件，使得防护件上下移动，清洁覆铜板的表面，防止腐蚀后的污染物贴附在覆铜板上，进而影响覆铜板的品质。
申请人信息
- 申请人:常州澳弘电子股份有限公司
- 申请人地址:213000 江苏省常州市新北区新科路15号
- 发明人: 常州澳弘电子股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311693819.6 |
| 申请日 | 2023/12/9 |
| 公告号 | CN117693127A |
| 公开日 | 2024/3/12 |
| IPC主分类号 | H05K3/06 |
| 权利人 | 常州澳弘电子股份有限公司 |
| 发明人 | 耿克非; 陈定红 |
| 地址 | 江苏省常州市新北区新科路15号 |
专利主权项内容
1.一种基于光刻工艺的图形转移设备，包括图形转移件(10)、蚀刻组件(20)、清洗组件(30)与防腐蚀材料制成的反应组件(40)，其特征在于，还包括防腐蚀材料制成的防护组件(50)与防腐蚀材料制成的扰动机构(60)，图形转移件(10)与蚀刻组件(20)均放置于地面上，且蚀刻组件(20)位于图形转移件(10)的一侧，蚀刻组件(20)内部安装有容纳空间(21)，清洗组件(30)与反应组件(40)均安装于容纳空间(21)中，防护组件(50)安装于反应组件(40)的内部，扰动机构(60)安装于反应组件(40)的底部，蚀刻组件(20)包括分隔件(22)与支撑板(23)，分隔件(22)与支撑板(23)均安装于容纳空间(21)内，且分隔件(22)位于清洗组件(30)与反应组件(40)的下方，支撑板(23)位于分隔件(22)的下方，反应组件(40)包括两个反应件(41)，两个反应件(41)均插设于分隔件(22)中，防护组件(50)包括有两个防护件(51)，两个防护件(51)分别安装于两个反应件(41)的内部，扰动机构(60)包括两个扰动组件(61)，两个扰动组件(61)分别安装于两个反应件(41)的底部，每个扰动组件(61)包括抽水泵(62)、抽水管(63)与扰动件(64)，抽水泵(62)安装于反应件(41)的底部，抽水管(63)插设于抽水泵(62)中，扰动件(64)套设于抽水管(63)中。