一种高吸收光学镀膜材料及其制备方法

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本发明提供了一种高吸收光学镀膜材料，制备原料包括以下重量组成成分：铝60份‑80份、硅30份‑45份、氧化物3份‑6份、氮化物2份‑5份、聚合物0.6份‑0.9份和稀土0.3份‑0.5份。本发明对光学镀膜材料的加工方式进行了优化，设计有光学镀膜吸收层的开孔操作、光学镀膜表面修饰增强处理和光学镀膜抗褪色处理步骤，其中光学镀膜吸收层的开孔操作，可以实现光的多次反射和散射，从而增加光的路径长度和吸收概率，另外光学镀膜表面修饰增强处理，可以增强光学镀膜的吸收性能，可以改变光场分布和增强局部电场，从而实现更高的吸收效果，此外光学镀膜抗褪色处理步骤，在光学镀膜表面添加一层防护层，以保护镀膜免受环境中的有害因素的侵蚀。