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调节器和半导体加工设备
摘要文本
本发明公开了一种调节器，包括主体和阀板；主体设有用于输送等离子体的传输通道；阀板能活动地安装于主体，并且阀板位于传输通道内；阀板用于在活动过程中调节传输通道的敞开面积。上述调节器中，主体的传输通道内设有阀板，阀板在活动过程中能调节传输通道的敞开面积，进而调节单位时间内通过传输通道的等离子体的数量和密度，满足全窗口工艺对刻蚀速率和均匀性的追求。本发明还公开一种应用上述调节器的半导体加工设备，满足全窗口工艺对刻蚀速率和均匀性的追求。
申请人信息
- 申请人:江苏鲁汶仪器股份有限公司
- 申请人地址:221300 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号
- 发明人: 江苏鲁汶仪器股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 调节器和半导体加工设备 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311298650.4 |
| 申请日 | 2023/10/9 |
| 公告号 | CN117038533B |
| 公开日 | 2024/2/13 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 江苏鲁汶仪器股份有限公司 |
| 发明人 | 庄佳伟; 卢浩; 朱德连; 刘磊; 郭颂; 钱俊; 朱小庆; 许开东 |
| 地址 | 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号 |
专利主权项内容
1.一种调节器，其特征在于，包括：主体，所述主体设有用于将等离子体输送至反应腔的传输通道；阀板，所述阀板能活动地安装于所述主体，并位于所述传输通道内；所述阀板用于在活动过程中调节所述传输通道的敞开面积；所述阀板能转动地安装于所述主体；所述阀板为多个，包括中心阀板和至少一个环形阀板；各阀板逐个套设，且所有的阀板分别能绕同一个轴线独立旋转。