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一种全背电极接触晶硅光伏电池的图案化方法及制备方法

申请号: CN202311493740.9
申请人: 扬州大学
申请日期: 2023/11/9

摘要文本

本发明属于晶硅光伏电池新能源领域,尤其涉及一种全背电极接触晶硅光伏电池的图案化方法及制备方法,包括如下操作步骤:在抛光样品背面完成非晶硅层或多晶硅层的沉积;在非晶硅层或多晶硅层上沉积一层液态硼源,并使用激光加热烘干局部区域的硼源;对样品进行清洗以去除未固化区域的硼源,剩下的区域作为背接触的P+区;通过印刷的方式对P+区及其外周印扩散隔离材料覆盖;采用高温磷扩实现N+区的掺杂和P+区的硼元素激活,完成全背电极接触晶硅光伏电池的图案化制备。本发明采用硼源+印扩散隔离材料+磷扩的方式将P+区、N+区和Gap区制备在一个平面上,降低了电池金属化时印刷浆料的难度,降低了硅片的碎片率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种全背电极接触晶硅光伏电池的图案化方法及制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311493740.9
申请日 2023/11/9
公告号 CN117542919A
公开日 2024/2/9
IPC主分类号 H01L31/18
权利人 扬州大学
发明人 李绿洲; 丁建宁; 王芹芹; 温相丽; 董旭; 江瑶瑶
地址 江苏省扬州市邗江区大学南路88号

专利主权项内容

1.一种全背电极接触晶硅光伏电池的图案化方法,其特征在于:包括如下操作步骤:S1:在抛光样品背面完成非晶硅层或多晶硅层的沉积;S2:在非晶硅层或多晶硅层上沉积一层液态硼源,并使用激光加热烘干局部区域的硼源;S3:对样品进行清洗以去除未固化区域的硼源,剩下的区域作为背接触的P+区;S4:对P+区及其外周印刷扩散隔离材料形成膜覆盖;S5:采用高温磷扩实现N+区的掺杂和P+区的硼元素激活,由此完成PIN结构;S6:清洗以去除扩散隔离材料膜及绕镀,获得洁净高效的表面。