薄膜沉积装置及沉积方法

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本发明公开了一种薄膜沉积装置及沉积方法。根据本发明实施例的薄膜沉积装置包括：反应腔，具有进气口和出气口；电极板，设置在反应腔内；以及基座，设置在反应腔内，具有用于承载晶圆的承载表面，承载表面与电极板相对设置；其中，电极板的第一端、基座的第一端与进气口相邻设置，电极板的第二端、基座的第二端与出气口相邻设置，以使气体由进气口经电极板与基座之间的气流通道流出至出气口；电极板的第一端与基座的第一端之间的距离为第一距离；电极板的第二端与基座的第二端之间的距离为第二距离，且第一距离小于第二距离。根据本发明实施例的薄膜沉积装置及沉积方法，能够沉积得到均匀性更好的薄膜。