气体喷淋装置、气体喷淋组件和薄膜沉积腔体

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公开了一种气体喷淋装置、气体喷淋组件和薄膜沉积腔体，所述气体喷淋装置包括：进气板，包括多个进气装置，每个所述进气装置上包括多个贯穿所述进气板的第一气孔，以使气体经所述第一气孔从所述进气板的第一表面到达所述进气板的第二表面；以及控制装置，与所述多个进气装置连接，用于控制所述进气装置按照预定方向和预定转速进行旋转，以控制所述气体的气流路径。本申请提供的气体喷淋装置及薄膜沉积腔体，通过气体喷淋装置上可以旋转的进气装置将反应气体均匀的带动到基片表面，从而提高基片上沉积的薄膜质量。