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一种基于超景深的大尺寸SiC晶圆应力测量方法

申请号: CN202311509404.9
申请人: 苏州瑞霏光电科技有限公司
申请日期: 2023/11/14

摘要文本

本发明提出了一种基于超景深的大尺寸SiC晶圆应力测量装置及方法,解决了传统圆偏光瞬时光弹测量方法在测量精度上受光学系统的限制及环境因素干扰的局限,其主要方案包括:由上至下依次同轴设置的偏振相机、双远心光路、中心镂空的机动转台、1/4波片、线偏振片以及准直光源,所述机动转台顶部固定支撑所述SiC晶圆沿边,所述准直光源经过所述线偏振片形成线偏光,再经过所述1/4波片形成圆偏振光,并穿过转台中心照射所述SiC晶圆,最后由所述偏振相机通过所述双远心光路获取SiC晶圆对应偏振态图像,所述机动转台能够以地面为水平面进行翻转定位。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于超景深的大尺寸SiC晶圆应力测量方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311509404.9
申请日 2023/11/14
公告号 CN117558640A
公开日 2024/2/13
IPC主分类号 H01L21/66
权利人 苏州瑞霏光电科技有限公司
发明人 解树平
地址 江苏省苏州市太仓市娄东街道北京东路88号东G一楼

专利主权项内容

1.一种基于超景深的大尺寸SiC晶圆应力测量装置,其特征在于,包括:由上至下依次同轴设置的偏振相机、双远心光路、中心镂空的机动转台、1/4波片、线偏振片以及准直光源,所述机动转台顶部固定支撑所述SiC晶圆沿边,所述准直光源经过所述线偏振片形成线偏光,再经过所述1/4波片形成圆偏振光,并穿过转台中心照射所述SiC晶圆,最后由所述偏振相机通过所述双远心光路获取SiC晶圆对应偏振态图像,所述机动转台能够以地面为水平面进行翻转定位。 来自马-克-数-据