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一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液、制备方法及用途

申请号: CN202311557087.8
申请人: 江苏奥首材料科技有限公司
申请日期: 2023/11/21

摘要文本

本发明涉及一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液,按照重量份计算,包括催化剂助剂5‑10份;催化剂前驱体10‑20份;氧化剂5‑15份;分散剂5‑20份;pH调节剂5‑20份;表面活性剂0.2‑5份;去离子水15‑45份。本发明还公开了上述研磨液的制备方法及用途。本发明的催化剂助剂同时含有吡啶基团与羧基基团,其具有加快凝胶的过程,减少反应的活化能,提高悬浮性的作用。氧化剂蒽醌‑2‑磺酸钠具有光激发氧化作用,可显著提高光催化效率,亚甲基二萘磺酸钠分散剂可提高分散、悬浮性。十八醇聚氧乙烯醚作为表面活性剂可以与催化剂助剂、分散剂等产生静电排斥效果,增强其对磨料的悬浮性。本发明通过多组分协同共同提高研磨液的悬浮性。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液、制备方法及用途
专利类型 发明申请
申请号 CN202311557087.8
申请日 2023/11/21
公告号 CN117757432A
公开日 2024/3/26
IPC主分类号 C09K3/14
权利人 江苏奥首材料科技有限公司
发明人 李传强; 侯军; 褚雨露; 单晓倩
地址 江苏省苏州市常熟市碧溪新区万和路39号

专利主权项内容

1.一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液,其特征在于,按照重量份计算,包括如下组分:其中,所述的催化剂助剂为2-甲基吡啶-4-甲酸、6-羧基吡啶-2-甲醇、2-羧基吡啶-5-硼酸、5-羧基-2, 3-二氨基吡啶、5, 6-二甲基-3-羧基-2-吡啶酮中的一种;所述的催化剂前驱体为钛酸四丁酯、正硅酸乙酯中的一种;所述的氧化剂为吡啶-4-乙酸盐钠、蒽醌-2-磺酸钠、氰基乙烯、2, 4, 6-三苯基吡啶鎓四氟硼酸盐中的一种。