一种晶圆清洗用摆臂装置
摘要文本
本发明涉及半导体制造设备技术领域，尤其为一种晶圆清洗用摆臂装置，包括固定底座，所述固定底座的顶部固定连接有支柱，所述支柱的顶端固定连接有支撑板，所述支撑板顶部远离支柱的一端固定连接有伺服电机，所述支撑板的底部分别设置有摆臂上壳体和摆臂下壳体。本发明通过设置伺服电机驱动摆臂转动，并通过摆臂壳体内部的传动机构驱动喷嘴转动，使毛刷摆臂装置具有能够调整药液喷布方向的优点，从而能够通过调节药液的喷布方向实现对晶圆的有效清洗，因而能够提升晶圆产品的生产质量，此外，通过调节喷嘴方向使得药液喷布方向与晶圆运动方向的夹角为锐角，避免了对晶圆表面药液正常流动的干扰，从而防止药液冲洗力度过大对元器件造成损伤。
申请人信息
- 申请人:苏州智程半导体科技股份有限公司
- 申请人地址:215311 江苏省苏州市昆山市巴城镇中华路889号
- 发明人: 苏州智程半导体科技股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种晶圆清洗用摆臂装置 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311763161.1 |
| 申请日 | 2023/12/21 |
| 公告号 | CN117476508B |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 |
| 发明人 | 顾雪平; 时新宇 |
| 地址 | 江苏省苏州市昆山市巴城镇中华路889号 |
专利主权项内容
更多数据： 1.一种晶圆清洗用摆臂装置，包括固定底座(1)，其特征在于：所述固定底座(1)的顶部固定连接有支柱(2)，所述支柱(2)的顶端固定连接有支撑板(3)，所述支撑板(3)顶部远离支柱(2)的一端固定连接有伺服电机(4)，所述支撑板(3)的底部分别设置有摆臂上壳体(5)和摆臂下壳体(6)，且摆臂上壳体(5)和摆臂下壳体(6)为可拆卸式连接，所述支撑板(3)的表面开设有通孔(7)；输液管道(9)，所述输液管道(9)的两端分别贯穿至摆臂上壳体(5)和摆臂下壳体(6)的外侧，所述输液管道(9)的顶端固定连接有药液接头(8)，所述输液管道(9)的底端固定连接有喷嘴(10)，所述摆臂上壳体(5)的内腔设置有传动板(11)，且传动板(11)延伸至摆臂上壳体(5)的外侧，所述摆臂下壳体(6)的内部开设有安装槽(12)，所述摆臂上壳体(5)的内部转动连接有第一转盘(13)，所述第一转盘(13)的底部设置有第一连接盘(14)，所述第一连接盘(14)的底部固定连接有第一连接座(15)，所述摆臂上壳体(5)的内部转动连接有第二转盘(16)，所述第二转盘(16)的底部设置有第二连接盘(17)，所述第二连接盘(17)的底部固定连接有第二连接座(18)，所述第一连接座(15)和第二连接座(18)的表面均转动连接有连接块(19)，所述连接块(19)的外侧转动连接有连接杆(20)。