← 返回列表
一种光波导及其制备方法
摘要文本
本发明涉及一种光波导，其包括：光波导层，位于所述光波导层上的调制层，所述光波导层和所述调制层之间设置有第一隔离层，所述调制层上覆盖有第一保护层，还包括：围绕在所述第一隔离层和所述调制层周围的第二隔离层，以及围绕在所述第一保护层、所述第二隔离层、所述光波导层周围的第二保护层；其中，所述调制层被包裹在由所述第一保护层、所述第一隔离层和所述第二隔离层围合形成的密闭腔内，且所述调制层为相变材料层或所述调制层包括相变材料层。相应地，本发明还提供了制备该光波导的方法。
申请人信息
- 申请人:光本位科技(苏州)有限公司
- 申请人地址:215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20栋215、217室
- 发明人: 光本位科技(苏州)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光波导及其制备方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311846859.X |
| 申请日 | 2023/12/29 |
| 公告号 | CN117706811A |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | G02F1/035 |
| 权利人 | 光本位科技(苏州)有限公司 |
| 发明人 | 程唐盛; 蒲华楠; 胡梓昕 |
| 地址 | 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20栋215、217室 |
专利主权项内容
1.一种光波导，其特征在于，包括：光波导层，位于所述光波导层上的调制层，所述光波导层和所述调制层之间设置有第一隔离层，所述调制层上覆盖有第一保护层，还包括：围绕在所述第一隔离层和所述调制层周围，且横截面呈倒置L字形的第二隔离层，以及围绕在所述第一保护层、所述第二隔离层、所述光波导层周围的第二保护层；其中，所述调制层被包裹在由所述第一保护层、所述第一隔离层和所述第二隔离层围合形成的密闭腔内，且所述调制层为相变材料层或所述调制层包括相变材料层。