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腔面清洁钝化方法

申请号: CN202311364704.2
申请人: 度亘核芯光电技术(苏州)有限公司
申请日期: 2023/10/20

摘要文本

本发明提供了一种腔面清洁钝化方法,涉及激光器的技术领域,所述腔面清洁钝化方法包括按照顺序进行的:步骤S1.加热腔面,以去除腔面上的易脱附杂质;步骤S2.在加热条件下,通入氧化气体,以去除有机杂质;步骤S3.在加热条件下,通入还原性气体,以去除氧化杂质;步骤S4.去除无机杂质;步骤S5.腔面钝化。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 腔面清洁钝化方法
专利类型 发明授权
申请号 CN202311364704.2
申请日 2023/10/20
公告号 CN117096724B
公开日 2024/2/6
IPC主分类号 H01S5/028
权利人 度亘核芯光电技术(苏州)有限公司
发明人 魏文超; 徐荣靖; 郑志川; 刘中华; 李颖; 惠利省; 杨国文
地址 江苏省苏州市自由贸易试验区苏州片区金鸡湖大道99号东北区32幢

专利主权项内容

1.一种腔面清洁钝化方法,其特征在于,包括按照顺序进行的:步骤S1.加热腔面,以去除腔面上的易脱附杂质;步骤S21.在加热条件下,利用氟离子与腔面上的氢成分反应,以去除有机杂质中的氢成分;步骤S22.在加热条件下,利用氧气,以去除有机杂质中的碳成分,并在腔面上形成临时氧化层;步骤S31. 在加热条件下,利用氢气去除步骤S22中形成的临时氧化层;步骤S32. 在加热条件下,利用一氧化氮去除腔面上原本存在的氧化层,并在所述腔面上形成临时钝化层;步骤S4.去除无机杂质;步骤S5.腔面钝化。