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紫外发光二极管外延片及其制备方法、紫外发光二极管

申请号: CN202311824802.X
申请人: 江西兆驰半导体有限公司
申请日期: 2023/12/28

摘要文本

微信公众号马克 数据网 本发明公开了一种紫外发光二极管外延片及其制备方法、紫外发光二极管,涉及半导体光电器件领域。其中,紫外发光二极管外延片依次包括衬底、缓冲层、非掺杂AlGaN层、N型AlGaN层、多量子阱层、电子阻挡层和P型AlGaN层;所述多量子阱层包括交替层叠的量子阱层和量子垒层;所述量子阱层包括依次层叠的Mg掺AlwGa1‑wN层、超晶格层和Mg掺AlxGa1‑xN层;所述量子垒层包括依次层叠的BαGa1‑αN层、AlγGa1‑γN层和BβGa1‑βN层;所述超晶格层为周期性结构,周期数为2~6,每个周期均包括依次层叠的AlyGa1‑yN层和InzGa1‑zN层。实施本发明,可提升紫外发光二极管的发光效率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 紫外发光二极管外延片及其制备方法、紫外发光二极管
专利类型 发明申请
申请号 CN202311824802.X
申请日 2023/12/28
公告号 CN117476829A
公开日 2024/1/30
IPC主分类号 H01L33/06
权利人 江西兆驰半导体有限公司
发明人 郑文杰; 曹斌斌; 程龙; 高虹; 刘春杨; 胡加辉; 金从龙
地址 江西省南昌市高新技术产业开发区天祥北大道1717号

专利主权项内容

1.一种紫外发光二极管外延片,包括衬底,依次层叠于所述衬底上的缓冲层、非掺杂AlGaN层、N型AlGaN层、多量子阱层、电子阻挡层和P型AlGaN层;所述多量子阱层包括交替层叠的量子阱层和量子垒层;其特征在于,所述量子阱层包括依次层叠的Mg掺AlGaN层、超晶格层和Mg掺AlGaN层;所述量子垒层包括依次层叠的BGaN层、AlGaN层和BGaN层;w1-wx1-xα1-αγ1-γβ1-β所述超晶格层为周期性结构,周期数为2~6,每个周期均包括依次层叠的AlGaN层和InGaN层。y1-yz1-z