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一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法

申请号: CN202311705497.2
申请人: 江西兆驰半导体有限公司
申请日期: 2023/12/13

摘要文本

本发明公开了一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法,图形化蓝宝石衬底的制备方法包括以下步骤:S100在蓝宝石衬底表面涂布光刻胶稀释剂,形成RRC膜;S200在蓝宝石衬底的RRC膜上涂布光刻胶,形成光刻胶膜,所述光刻胶膜的厚度沿衬底中心向衬底边缘方向减小;S300通过图形转印技术使蓝宝石衬底上的光刻胶膜形成光刻胶胶柱,所述光刻胶胶柱的高度沿衬底中心向衬底边缘方向减小;S400在光刻胶胶柱的保护下对蓝宝石衬底进行刻蚀,得到图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法能够提高图形化蓝宝石衬底的均匀性,从而提高芯片的整体质量。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311705497.2
申请日 2023/12/13
公告号 CN117410168A
公开日 2024/1/16
IPC主分类号 H01L21/02
权利人 江西兆驰半导体有限公司
发明人 郭文凯; 田晓强; 崔思远; 文国昇; 金从龙
地址 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号

专利主权项内容

1.一种图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S100在蓝宝石衬底表面涂布光刻胶稀释剂,形成RRC膜;S200在蓝宝石衬底的RRC膜上涂布光刻胶,形成光刻胶膜,所述光刻胶膜的厚度沿衬底中心向衬底边缘方向减小;S300通过图形转印技术使蓝宝石衬底上的光刻胶膜形成光刻胶胶柱,所述光刻胶胶柱的高度沿衬底中心向衬底边缘方向减小;S400在光刻胶胶柱的保护下对蓝宝石衬底进行刻蚀,得到图形化蓝宝石衬底。