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一种晶圆加工用的上下料装置及方法

申请号: CN202311647647.9
申请人: 江西安芯美科技有限公司
申请日期: 2023/12/4

摘要文本

本发明涉及晶圆加工技术领域,且公开了一种晶圆加工用的上下料装置及方法,解决了晶圆上下料周期较长,影响工作效率的问题,其包括安装座,所述安装座的下方设有旋转架,旋转架的上方设有连接盘,安装座的上方设有转轴,安装座上设有用于驱动转轴旋转的驱动件,转轴和连接盘通过摩擦传动结构连接,连接盘和旋转架通过拉伸止动器连接,旋转架的上方设有按压环,转轴和按压环通过摩擦往复移动组件连接,旋转架的顶部固定连接有限位块,按压环上开设有两个与限位块相配合的避让槽,旋转架的底部固定连接有第一晶圆吸附机构和第二晶圆吸附机构;在上料的同时进行下料,减少晶圆上下料的周期,增加了工作效率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种晶圆加工用的上下料装置及方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311647647.9
申请日 2023/12/4
公告号 CN117612987A
公开日 2024/2/27
IPC主分类号 H01L21/677
权利人 江西安芯美科技有限公司
发明人 陆金发
地址 江西省萍乡市安源区安源工业园电子信息产业园B栋

专利主权项内容

1.一种晶圆加工用的上下料装置,包括安装座(1),其特征在于:所述安装座(1)的下方设有旋转架(2),旋转架(2)的上方设有连接盘(3),安装座(1)的上方设有转轴(4),安装座(1)上设有用于驱动转轴(4)旋转的驱动件,转轴(4)和连接盘(3)通过摩擦传动结构连接,连接盘(3)和旋转架(2)通过拉伸止动器连接,旋转架(2)的上方设有按压环(5),转轴(4)和按压环(5)通过摩擦往复移动组件连接,旋转架(2)的顶部固定连接有限位块(6),按压环(5)上开设有两个与限位块(6)相配合的避让槽(7),旋转架(2)的底部固定连接有第一晶圆吸附机构(8)和第二晶圆吸附机构(9),安装座(1)上设有分别与第一晶圆吸附机构(8)和第二晶圆吸附机构(9)相配合的控制单元,旋转架(2)上固定连接有止动架(10),安装座(1)的下方设有两个与止动架(10)相配合的挡板(11),止动架(10)上固定连接有按压柱(12),挡板(11)的一侧设有活动板(13),活动板(13)上设有与按压柱(12)相配合的倾斜面,安装座(1)上设有分别与挡板(11)和活动板(13)相配合的止动滑动避让结构。