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一种基于高光谱成像技术的新型静力触探试验装置
摘要文本
本申请涉及土木工程试验技术领域，具体公开了一种基于高光谱成像技术的新型静力触探试验装置，包括同轴连接的外壳、光学视窗和摩擦筒，光学视窗内安装有光源，摩擦筒内设置有静力触探组件，用于检测装置压入土层的阻力；外壳内设置有光纤传感器、无线收发器、数据处理芯片和电源，光纤传感器用于接收目标物的反射光并输出空间位置信息和光谱信息，无线收发器用于上传测试数据和接受控制信号，数据处理芯片用于分析处理测试数据。本申请结构紧凑，具有光谱分辨率高、成像速度快、抗干扰能力强等优点，可在静力触探试验过程中实时获取原位土体的化学组成信息，与静力触探结果进行对比分析和验证，提高了利用静力触探试验划分复杂地层的准确性。
申请人信息
- 申请人:中国科学院武汉岩土力学研究所
- 申请人地址:430071 湖北省武汉市水果湖街小洪山2号
- 发明人: 中国科学院武汉岩土力学研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种基于高光谱成像技术的新型静力触探试验装置 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311624717.9 |
| 申请日 | 2023/11/29 |
| 公告号 | CN117661528A |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | E02D1/00 |
| 权利人 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 |
| 发明人 | 薛强; 魏厚振; 万勇; 马晓龙; 阮航; 孙翔; 李江山 |
| 地址 | 湖北省武汉市武昌区水果湖街小洪山2号 |
专利主权项内容
1.一种基于高光谱成像技术的新型静力触探试验装置，其特征在于：包括：外壳；摩擦筒，与所述外壳同轴连接；静力触探组件，设置于所述摩擦筒内，用于检测装置压入土层的阻力；光学视窗，与所述摩擦筒同轴连接；光源，安装于所述光学视窗内，所述光源发出的光可透过所述光学视窗进入土体，土体中目标物的反射光可透过所述光学视窗进入所述外壳；所述外壳内设置有：光纤传感器，用于接收目标物的反射光并输出两个空间维和一个光谱维的信息；无线收发器，用于上传测试数据和接受控制信号；数据处理芯片，用于对所述光纤传感器输出的电信号进行分析处理并发送数据到所述无线收发器；电源，用于对所述光源、所述光纤传感器、所述数据处理芯片和所述无线收发器供电。。（macrodatas.cn） （来 自 马 克 数 据 网）