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一种计算光刻非线性系统的建模、标定方法和装置
摘要文本
本发明公开了一种计算光刻非线性系统的建模、标定方法和装置，属于计算光刻建模领域。本发明提出二阶维纳系统级联组合的非线性建模新思路，通过同一层级内各建模模块的组合、不同层级之间级联、并联或混联，构造多个层级，从而解决非线性系统中二阶以上特征的模拟问题。强调并利用了二阶维纳系统在非线性连续系统及过程描述方面的普适性优势，级联组合在避免提升复杂度的同时保证了对系统高阶特性的描述表征能力。
申请人信息
- 申请人:武汉宇微光学软件有限公司
- 申请人地址:430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区创业街海达创新广场写字楼1801
- 发明人: 武汉宇微光学软件有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种计算光刻非线性系统的建模、标定方法和装置 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311642433.2 |
| 申请日 | 2023/12/4 |
| 公告号 | CN117452779B |
| 公开日 | 2024/3/19 |
| IPC主分类号 | G03F7/20 |
| 权利人 | 武汉宇微光学软件有限公司 |
| 发明人 | 尉海清; 张松 |
| 地址 | 湖北省武汉市东湖新技术开发区创业街海达创新广场写字楼1801 |
专利主权项内容
1.一种计算光刻非线性系统的建模方法，其特征在于，包括：根据计算光刻系统的网络架构中各建模模块的核函数组，计算对应建模模块，直至所有建模模块均计算完毕，得到计算光刻系统的整体网络模型，其中，所述网络架构由多个相同或者不同的层级结构组成，所述层级结构由多个相同或者不同的建模模块组成，整个网络架构包括至少一个二阶维纳模块；所述网络架构的层级数、不同层级之间连接方式、各层级结构内建模模块的数量及组合方式、各建模模块的核函数组，均根据计算光刻非线性系统的特征设置。