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一种半导体合金靶材切削液及其制备方法

申请号: CN202311527545.3
申请人: 俄美达(武汉)有限公司
申请日期: 2023/11/16

摘要文本

本发明公开了一种半导体合金靶材切削液及其制备方法,涉及半导体材料加工技术领域。本发明切削液包括如下重量百分比的原料:5‑15%润滑剂、0.05‑0.2%表面活性剂、4‑15%润滑防锈剂、0.5‑2%乳化助剂、1‑3%消泡剂、余量为水,各原料组分之和为100%。本申请制备的一种新型润滑防锈剂添加在切削液中,在靶材表面的油膜可以提供保护层,不仅可以抑制新产生的靶材表面与水反应生成氢气,而且摩擦表面形成边界润滑膜来实现润滑、防锈的性能。 百度搜索马 克 数 据 网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种半导体合金靶材切削液及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311527545.3
申请日 2023/11/16
公告号 CN117568090A
公开日 2024/2/20
IPC主分类号 C10M173/02
权利人 俄美达(武汉)有限公司
发明人 高原; 吴明洋; 罗丽琳
地址 湖北省武汉市江夏区庙山经济开发区汤逊湖工业园

专利主权项内容

1.一种半导体合金靶材切削液,其特征在于,切削液包括如下重量百分比的原料:5-15%润滑剂、0.05-0.2%表面活性剂、4-15%润滑防锈剂、0.5-2%乳化助剂、1-3%消泡剂、余量为水,各原料组分之和为100%;所述润滑防锈剂的制备方法包括如下步骤:S1:氮气氛围中,将油酸、三乙醇胺加入反应釜A中,分散均匀,控制温度55-65℃,加入对甲苯磺酸,分散均匀,控制温度140-150℃,保温反应3-6h,得到组分一;S2:将组分一、甲酸、磷酸加入反应瓶中, 控制温度40-50℃,加入双氧水溶液,控制温度65-75℃,保温反应9-12h,静置、取上层液水洗至中性,减压蒸馏,得到组分二;S3:将组分二、硫酸溶液加入反应釜B中,控制温度100-110℃,回流反应1-3h,调节pH至中性,得到组分三;S4:将组分三、硼酸、甲苯加入反应釜C中,控制温度105-120℃,保温回流1-2h,加入乙醇胺,再反应12-18h, 减压蒸馏,得到润滑防锈剂。