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一种利用ALD技术制备复合碳负极的方法和复合碳负极

申请号: CN202311376223.3
申请人: 柔电(武汉)科技有限公司; 宁波柔创纳米科技有限公司
申请日期: 2023/10/23

摘要文本

本发明涉及锂离子电池负极材料的制备方法技术领域,尤其涉及一种利用ALD技术制备复合碳负极的方法和复合碳负极。包括多孔碳基体和位于多孔碳基体孔道内部的复合纳米包覆层,所述复合纳米包覆层是由纳米硅层及金属氧化物层交替组成,纳米硅层和金属氧化物层是二氧化硅层与金属层通过金属热还原反应转化获得,所述二氧化硅层和金属层均为利用ALD原子沉积法在多孔碳基体孔道内部交替沉积所得的薄膜。能够实现硅和碳的化学接触,有效提高硅碳负极材料的循环寿命和克容量发挥,并避免了传统CVD技术固有的危险。。微信公众号马克数据网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种利用ALD技术制备复合碳负极的方法和复合碳负极
专利类型 发明申请
申请号 CN202311376223.3
申请日 2023/10/23
公告号 CN117457865A
公开日 2024/1/26
IPC主分类号 H01M4/36
权利人 柔电(武汉)科技有限公司; 宁波柔创纳米科技有限公司
发明人 解明; 张宣宣; 李煜宇
地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道303号光谷.芯中心2-03栋402室; 浙江省宁波市杭州湾新区滨海二路1188号科技创业服务中心12楼1213-44室

专利主权项内容

1. 一种复合碳负极,其特征在于,所述复合碳负极包括多孔碳基体和位于多孔碳基体孔道内部的复合纳米包覆层,所述复合纳米包覆层包括纳米硅及金属氧化物,纳米硅及金属氧化物是二氧化硅层与金属层通过金属热还原反应转化获得,所述二氧化硅层和金属层均为利用ALD原子沉积法在多孔碳基体孔道内部交替沉积所得的薄膜,所述多孔碳基体的平均介孔孔径为 50nm ,连接孔孔径为10nm,多孔碳基体的孔径分布于30~100纳米,所述多孔碳基体的内壁沉积复合纳米包覆层后,还保留孔结构,孔结构的体积为多孔碳基体介孔的至少2/3的空间。。更多数据:www.macrodatas.cn