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相变存储器及其形成方法、漏电测试方法

申请号: CN202311629645.7
申请人: 新存科技(武汉)有限责任公司
申请日期: 2023/11/29

摘要文本

本公开提供了一种相变存储器,该相变存储器包括:基底;基底包括沿第一方向排布的阵列区和测试区,测试区至少包括第一区域;第一方向与第二方向垂直,第二方向为基底的厚度方向;第一导电线以及第一相变存储单元;第一导电线位于阵列区上,第一相变存储单元位于第一导电线上;第一导电线沿第三方向延伸,第一相变存储单元沿第二方向延伸;第三方向与第一方向和第二方向均垂直;第一介质层;第一介质层位于第一区域上,且第一介质层的顶面与第一相变存储单元的顶面齐平;在第一相变存储单元上以及第一介质层上堆叠排布的第二导电线、第三导电线、第二相变存储单元以及第四导电线;第二导电线和第三导电线沿第一方向延伸。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 相变存储器及其形成方法、漏电测试方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311629645.7
申请日 2023/11/29
公告号 CN117596898A
公开日 2024/2/23
IPC主分类号 H10B63/10
权利人 新存科技(武汉)有限责任公司
发明人 刘国强; 刘峻; 贺祖茂; 张恒
地址 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区高新大道999号武汉未来科技城龙山创新园一期B4栋18楼534(自贸区武汉片区)

专利主权项内容

1.一种相变存储器,其特征在于,包括:基底;所述基底包括沿第一方向排布的阵列区和测试区,所述测试区至少包括第一区域;所述第一方向与第二方向垂直,所述第二方向为所述基底的厚度方向;第一导电线以及第一相变存储单元;所述第一导电线位于所述阵列区上,所述第一相变存储单元位于所述第一导电线上;所述第一导电线沿第三方向延伸,所述第一相变存储单元沿所述第二方向延伸;所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均垂直;第一介质层;所述第一介质层位于所述第一区域上,且所述第一介质层的顶面与所述第一相变存储单元的顶面齐平;在所述第一相变存储单元上以及所述第一介质层上堆叠排布的第二导电线、第三导电线、第二相变存储单元以及第四导电线;所述第二导电线和所述第三导电线沿所述第一方向延伸,所述第四导电线沿所述第三方向延伸,所述第二相变存储单元沿所述第二方向延伸。 关注微信公众号马克数据网