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一种精密基板气浮输送系统及方法
摘要文本
本申请涉及一种精密基板气浮输送系统及方法，该系统包括包括：吸附输送组件，吸附输送组件包括沿输送方向运动的吸附端；气浮支撑组件，气浮支撑组件包括气浮台，气浮台的气浮面在输送方向上依次包括第一输送区、精密区和第二输送区，精密区在输送方向上分为多个精密段。本申请通过将第一输送区、精密区和第二输送区中的分段设计，以在第一输送区和第二输送区与精密区交界处，通过适应性改变各分段的气压和流量，使得柔性面板逐渐地在交界处过渡，避免柔性面板出现骤升或者骤降的情况，减小处于精密区内的柔性面板的高度波动范围，提高加工质量。 更多数据：搜索马克数据网来源：www.macrodatas.cn
申请人信息
- 申请人:武汉国创科光电装备有限公司
- 申请人地址:430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区左岭镇左岭路117号光电子配套产业园一期厂房1号楼
- 发明人: 武汉国创科光电装备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种精密基板气浮输送系统及方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311734149.8 |
| 申请日 | 2023/12/15 |
| 公告号 | CN117622882A |
| 公开日 | 2024/3/1 |
| IPC主分类号 | B65G51/02 |
| 权利人 | 武汉国创科光电装备有限公司 |
| 发明人 | 唐伟; 张礼军; 付宇; 潘浩 |
| 地址 | 湖北省武汉市东湖新技术开发区左岭镇左岭路117号光电子配套产业园一期厂房1号楼 |
专利主权项内容
1.一种精密基板气浮输送系统，用于输送柔性面板，其特征在于，其包括：吸附输送组件，所述吸附输送组件包括沿输送方向运动的吸附端，所述吸附端用于吸附所述柔性面板；气浮支撑组件，所述气浮支撑组件包括气浮台，所述气浮台的气浮面在所述输送方向上依次包括第一输送区、精密区和第二输送区，所述精密区在所述输送方向上分为多个精密段；控制模组，所述控制模组与所述气浮台的压力供给件电连接，以对多个所述第一输送区、多个所述精密段和多个所述第二输送区的压力和流量进行控制，以改变所述柔性面板处于所述气浮台不同位置处的飞高。