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一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法
摘要文本
本发明属于光学测量技术领域，公开了一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法，其由测量光路模块和曝光光路模块组成，在测量光路中，测量光源发出的探测光依序经同步快门、反射镜、起偏器、光弹调制器调制后照射到样本表面并反射，反射光束被两分束器分成光强大致相同的三束光，分别遭受不同规格的波片和偏振分束器的解调，进而由6个光电倍增管感知瞬时光强；根据测量光强并结合测量系统光学模型，提取出样本的测量穆勒矩阵，进而根据样本光学模型求得样品三维形貌，以实现光刻胶曝光过程的动态监测。本发明具有高时间分辨率、原位动态测量、测量信息丰富的优点。
申请人信息
- 申请人:华中科技大学
- 申请人地址:430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 发明人: 华中科技大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311493514.0 |
| 申请日 | 2023/11/9 |
| 公告号 | CN117590702A |
| 公开日 | 2024/2/23 |
| IPC主分类号 | G03F7/20 |
| 权利人 | 华中科技大学 |
| 发明人 | 刘世元; 李磊; 刘佳敏; 江浩 |
| 地址 | 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |
专利主权项内容
1.一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置，用于测量光刻胶样本，其特征在于，包括测量光路单元和曝光光路单元；所述测量光路单元包括入射光路、反射光路和数据采集仪(12)；所述入射光路发出的入射光经由所述光刻胶样本反射形成的反射光进入所述反射光路；所述入射光路包括依次布置的测量光源(1)、起偏器(5)和两个光弹调制器(6)；所述反射光路包括两个非偏振分束器(3)、三个偏振分束器(4)和六个光电倍增管(9)，所述反射光经所述两个非偏振分束器(3)分为三束光，一一对应进入所述三个偏振分束器(4)后一分为二获得总共六路出射光；六路出射光分别经六个光电倍增管(9)转换为电信号后输入数据采集仪(12)；所述曝光光路单元包括依次布置的曝光光源(14)、透镜组(13)掩模(11)、非偏振分束器(3)和物镜(7)；测量光源(1)和起偏器(5)之间、透镜组(13)和掩模(11)之间各设有一个电子快门(2)，两个电子快门(2)同步控制；测量时，物镜(7)的出射光在光刻胶样本表面形成的曝光光斑范围完全覆盖入射光路在光刻胶样本表面形成的光斑。 微信公众号马克数据网