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防氧化剂、背光模组及其制作方法
摘要文本
本发明公开了一种防氧化剂、背光模组及其制作方法。防氧化剂包括成膜组分以及挥发抑制添加剂，其中，成膜组分包括取代或未取代的丙烯酸树脂、异丙醇胺、以及咪唑啉中的至少一者，挥发抑制添加剂的沸点大于所述成膜组分的沸点。本发明可以减缓挥发型防氧化剂的挥发速率；进而在应用过程中，可以将该防氧化剂涂覆于背光模组的端子上，并可以在制程中逐渐挥发，即减少端子的氧化，又可以避免该防氧化剂影响端子的绑定连接。 微信公众号马克 数据网
申请人信息
- 申请人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 申请人地址:430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
- 发明人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 防氧化剂、背光模组及其制作方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202310804709.6 |
| 申请日 | 2023/6/30 |
| 公告号 | CN117467318A |
| 公开日 | 2024/1/30 |
| IPC主分类号 | C09D133/00 |
| 权利人 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 发明人 | 邓红照 |
| 地址 | 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 |
专利主权项内容
1.一种防氧化剂，其特征在于，所述防氧化剂包括成膜组分以及挥发抑制添加剂，其中，所述成膜组分包括取代或未取代的丙烯酸树脂、异丙醇胺、以及咪唑啉中的至少一者，所述挥发抑制添加剂的沸点大于所述成膜组分的沸点。 关注微信公众号马克数据网