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一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法

申请号: CN202410186779.4
申请人: 浙江大学
申请日期: 2024/2/20

摘要文本

本发明公开了一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法,属于超精密加工领域,包括以下步骤:选择具有光催化活性的纳米颗粒作为光催化介质,采用光还原法实现金属纳米颗粒在光催化介质表面的析出,制备光电催化团簇;将其与去离子水混合制备抛光液;利用催化光源照射至工件待加工面、光电催化团簇和柔性工具的耦合区域,同时为工件的导电托盘施加偏压;对柔性工具头施加法向负载并设置转速,产生流体动压力驱动抛光液流动,实现原子级精度的可控去除。本发明通过光电催化团簇中的金属颗粒捕获光生电子,提高光生载流子寿命,通过空间电场抑制电子空穴对复合,形成大量新的反应活性位点,提高限域内光催化反应速率,避免工件表面划伤。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410186779.4
申请日 2024/2/20
公告号 CN117733663A
公开日 2024/3/22
IPC主分类号 B24B1/00
权利人 浙江大学
发明人 朱吴乐; 吴思东; 孙奇; 韩放; 高威; 薛曹阳; 赵翔; 贾炳春; 王靖远; 张伟建; 居冰峰
地址 浙江省杭州市西湖区浙大路38号

专利主权项内容

1.一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法,其特征在于:其包括以下步骤:S1.选择具有光催化活性的纳米颗粒作为光催化介质,采用光还原法实现金属纳米颗粒在光催化介质表面的析出,制备出光电催化团簇;S2.将光电催化团簇与去离子水混合制备抛光液;S3.利用催化光源照射至工件待加工面、光电催化团簇和柔性工具的耦合区域,同时为工件的导电托盘施加偏压,控制其电位并在光电催化团簇与工件之间形成空间电场;S4.对柔性工具头施加法向负载并设置转速,产生流体动压力使工具头与工件表面保留的间隙,通过流场驱动间隙内的抛光液流动,在界面光电协同催化作用下实现原子级精度的可控去除。