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一种微流控芯片制造方法

申请号: CN202410182835.7
申请人: 杭州联川生物技术股份有限公司
申请日期: 2024/2/19

摘要文本

本发明涉及微流控芯片技术领域,具体涉及一种微流控芯片制造方法,包括如下步骤:S1、提供如下材料:光机、芯片底座、芯片压板、玻片;通过芯片压板将玻片压紧在芯片底座上,并使芯片底座与玻片之间形成封闭的成型空间;所述芯片压板对应成型空间位置开口设置;芯片底座上设有与成型空间连通的进液通道和出液通道;S2、清洗玻片:将清洗试剂由进液通道通入成型空间内,清洗试剂流过玻片对玻片进行清洗;S3、通入光敏树脂;S4、固化成型:经光机照射的光敏树脂固化成型形成栅栏,栅栏间围设形成主流道、分流道、反应单元;本发明制造周期短,通用性好。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种微流控芯片制造方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410182835.7
申请日 2024/2/19
公告号 CN117732525A
公开日 2024/3/22
IPC主分类号 B01L3/00
权利人 杭州联川生物技术股份有限公司
发明人 张会刚; 李璐璐; 郎秋蕾
地址 浙江省杭州市杭州经济技术开发区6号大街260号16幢四层

专利主权项内容

1.一种微流控芯片制造方法,包括如下步骤:S1、提供如下材料:光机、芯片底座、芯片压板、玻片;通过芯片压板将玻片压紧在芯片底座上,并使芯片底座与玻片之间形成封闭的成型空间;所述芯片压板对应成型空间位置开口设置;芯片底座上设有与成型空间连通的进液通道和出液通道;S2、清洗玻片:将清洗试剂由进液通道通入成型空间内,清洗试剂流过玻片对玻片进行清洗;S3、通入光敏树脂:清洗结束后,通过进液通道向成型空间内注入光敏树脂,使之充满成型空间;S4、固化成型:打开光机,并输出第一光掩膜,光机透过第一光掩膜照射成型空间内的光敏树脂一段时间,经光机照射的光敏树脂固化成型形成栅栏,栅栏间围设形成主流道、分流道、反应单元;S5、清洗玻片:将清洗试剂由进液通道通入成型空间内,清洗试剂流过玻片对玻片进行清洗,以冲洗掉成型空间内残留的光敏树脂。