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散射孔径成像方法、装置及系统和存储介质

申请号: CN202410111475.1
申请人: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
申请日期: 2024/1/26

摘要文本

本发明公开一种散射孔径成像方法、装置及系统和存储介质,所述方法主要包括散射点位置估计、方位向重采样、距离补偿、合成孔径雷达成像四个步骤,使用固定位置的相控阵雷达进行非视域成像,该雷达可以控制波束在空间中进行扫描,该过程等效于散射孔径沿中继面移动。因此,本发明实现非视域成像的方式是将其转化为视域合成孔径雷达成像,能适用于中继面粗糙的情况,能适应表面情况更为复杂的中继面,从而拓宽了雷达非视域成像的应用范围。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 散射孔径成像方法、装置及系统和存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202410111475.1
申请日 2024/1/26
公告号 CN117630937A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 G01S13/90
权利人 电子科技大学长三角研究院(湖州)
发明人 钱江
地址 浙江省湖州市西塞山路819号南太湖科技创新综合体B幢

专利主权项内容

1.一种散射孔径成像方法,其特征在于,所述方法包括:估计主散射体位置;基于主散射体位置利用插值的方式进行方位向重采样,采样点在方位向上表现为均匀线阵;距离补偿,以使信号的传播路径变为主散射体→目标→主散射体;合成孔径雷达成像。