一种半导体器件及其制作方法、电子装置

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中芯国际集成电路制造(上海)有限公司; 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本发明提供一种半导体器件及其制作方法、电子装置，所述方法包括 : 提供半导体衬底，所述半导体衬底中形成有浅沟槽隔离，所述浅沟槽隔离上形成有栅极结构；在所述栅极结构上形成图案化的光刻胶层；以所述图案化的光刻胶层为掩膜蚀刻所述栅极结构和所述浅沟槽隔离，以在所述浅沟槽隔离中形成凹槽；在所述凹槽中形成屏蔽场板。根据本发明提供的半导体器件的制作方法，通过在栅极上形成图案化的光刻胶层，然后以图案化的光刻胶层为掩膜蚀刻栅极和浅沟槽隔离，并在蚀刻浅沟槽隔离形成的凹槽中形成屏蔽场板，简化了工艺步骤，节约了工艺成本，提高了器件性能。