一种金属剥离胶组合物在光刻工艺中的应用

专利主权项内容

1.一种金属剥离胶组合物在光刻工艺中的应用，其特征在于，所述金属剥离胶组合物作为碱溶牺牲层应用在金属剥离工艺中，其上层可兼容光刻胶，所述光刻胶选自G线、I线光刻胶、248nm光刻胶、193nm光刻胶、极紫外光刻胶、纳米压印光刻胶或电子束光刻胶；所述金属剥离胶组合物由聚合物树脂与碱溶调节剂、感光剂和光刻胶溶剂中的一种或多种复配制得，所述金属剥离胶组合物按重量计由如下组分组成：聚合物树脂1-30％；碱溶调节剂0-20％；感光剂0-20％；光刻胶溶剂50-98％；所述聚合物树脂具有如下通式：其中，R、R、R、R、R、R中的每个选自H、苯基或含1-4个碳原子的烷烃基团；123468R选自含1-10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团；5R选自1-10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团；7X选自含1-10个碳原子的直链、支链、环状烃类基团，醚类基团，酯基或酰胺基团；所述聚合物树脂由马来酰亚胺单体、N-取代的马来酰亚胺单体、丙烯酸酯类单体和含六氟异丙醇结构单体共聚而成；所述马来酰亚胺单体按重量计占所述聚合物树脂的单体的0.1％-20％，所述N-取代的马来酰亚胺单体按重量计占所述聚合物树脂的单体的20％-70％，所述丙烯酸酯类单体按重量计占所述聚合物树脂的单体的1％-50％，所述含六氟异丙醇结构单体按重量计占所述聚合物树脂的单体的0.5％-30％。 来源：马 克 数 据 网