掩模

专利主权项内容

1.一种掩模，用于发射层的沉积工艺，其特征在于，所述掩模包括：
掩模主体，所述掩模主体包括沿第一方向延伸的多个第一掩模网格和沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸的多个第二掩模网格；
多个孔，所述多个孔由所述多个第一掩模网格和所述多个第二掩模网格限定，其中，所述多个孔被限定穿过所述掩模主体的一部分；
多个第一加热布线，所述多个第一加热布线被布置成与所述多个第一掩模网格重叠并且连接到多个第一布线；
多个第二加热布线，所述多个第二加热布线被布置成与所述多个第二掩模网格重叠并且连接到多个第二布线；
多个第一焊盘，所述多个第一焊盘连接到所述多个第一布线；以及
多个第二焊盘，所述多个第二焊盘连接到所述多个第二布线，
其中，电流或电压通过探针被输入到所述多个第一焊盘和所述多个第二焊盘。