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一种应用于高密度等离子体侧线圈的调整结构
摘要文本
盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型提供一种应用于高密度等离子体侧线圈的调整结构,其包括底座,所述底座上设有反应腔室,所述底座的反应腔室上方安装有陶瓷穹顶,所述陶瓷穹顶的圆弧面套有侧线圈,所述侧线圈的圆弧面卡接有若干夹持块,所述夹持块的一侧卡接有用以调节夹持块位置的调整环,所述调整环的一侧滑动连接有压紧支架,所述压紧支架的一端开设有螺纹孔,所述调整环内开设有螺孔,所述调整环的螺孔内部螺纹连接有顶丝。本实用新型解决了现有技术通过调节工艺参数对溅射均匀性改善不大,且只有侧线圈的功率以及等离子体的分布对其影响较大,以及现有设备无法调节侧线圈位置去改变等离子体分布等问题。
专利主权项内容
1.一种应用于高密度等离子体侧线圈的调整结构,其包括底座(7),其特征在于:所述底座(7)上设有反应腔室,所述底座(7)的反应腔室上方安装有陶瓷穹顶(1),所述陶瓷穹顶(1)的圆弧面套有侧线圈(2),所述侧线圈(2)的圆弧面卡接有若干夹持块(3),所述夹持块(3)的一侧卡接有用以调节夹持块(3)位置的调整环(4),所述调整环(4)的一侧滑动连接有压紧支架(5),所述压紧支架(5)的一端开设有螺纹孔。
专利申请信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种应用于高密度等离子体侧线圈的调整结构 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323421986.3 |
| 申请日 | 2023/12/14 |
| 公告号 | CN222281917U |
| 公开日 | 2024/12/31 |
| IPC主分类号 | H01J37/32 |
| 权利人 | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 |
| 发明人 | 潘铁壮; 祁广杰; 初春; 李久龙; 苏宇; 田才忠 |
| 地址 | 浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村宁裘路78号 |