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一种碳化硅沉积设备

申请号: CN202323436908.0
申请人: 北京亦盛精密半导体有限公司
更新日期: 2026-05-11

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种碳化硅沉积设备
专利类型 实用新型
申请号 CN202323436908.0
申请日 2023/12/15
公告号 CN222043341U
公开日 2024/11/22
IPC主分类号 C23C16/455
权利人 北京亦盛精密半导体有限公司
发明人 王力; 张慧; 包根平; 李靖晗
地址 北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号8幢厂房

摘要文本

北京亦盛精密半导体有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种碳化硅沉积设备,包括圆柱形的反应腔,反应腔内部设置有多个石墨舟,其外部设置有进气导管,其顶部设置有与之内部连通的排气接头,反应腔内表面对称位置圆周设置有数组进气单元,每组进气单元有数个等间距排设的进气管接头组成,进气管接头包括贯穿反应腔内壁的主管,主管位于反应腔内的一端固定连接有与之垂直的副管,且主管位于副管中间的位置,副管的一端封堵,其外表面与主管对立的位置还间距开设有出气孔,主管位于反应腔外侧的一端连通有进气管;本实用新型通过在反应腔内设置进气管接头,提高内部进气的整体均匀性,提升产品沉积均匀性以及腔室内不同位置产品沉积厚度的一致性。

专利主权项内容

1.一种碳化硅沉积设备,包括圆柱形的反应腔(1),反应腔(1)内部设置有多个石墨舟,其外部设置有进气导管,其顶部设置有与之内部连通的排气接头(2),其特征在于;反应腔(1)内表面对称位置圆周设置有数组进气单元,每组进气单元有数个等间距排设的进气管接头(3)组成;
进气管接头(3)包括贯穿反应腔(1)内壁的主管(31),主管(31)位于反应腔(1)内的一端固定连接有与之垂直的副管(32),且主管(31)位于副管(32)中间的位置,副管(32)的一端封堵,其外表面与主管(31)对立的位置还间距开设有出气孔(33);
主管(31)位于反应腔(1)外侧的一端连通有进气管。