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一种CVD金刚石化学气相沉积机构
申请人信息
- 申请人:湖州中芯半导体科技有限公司
- 申请人地址:313000 浙江省湖州市吴兴区高新区中横港路33号2号厂房5号
- 发明人: 湖州中芯半导体科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种CVD金刚石化学气相沉积机构 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420001671.9 |
| 申请日 | 2024/1/2 |
| 公告号 | CN222226547U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | C23C16/27 |
| 权利人 | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 发明人 | 刘宏明; 李升 |
| 地址 | 浙江省湖州市吴兴区高新区中横港路33号2号厂房5号 |
摘要文本
湖州中芯半导体科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本实用新型涉及一种CVD金刚石化学气相沉积机构，包括圆形真空反应罐为夹层结构，且圆形真空反应罐侧边均匀开设有活动密封孔，圆形真空反应罐内部中心位置设有沉积台，沉积台下端设有加热机构，加热机构设置在圆形真空反应罐下端中部，圆形真空反应罐下端均匀设有三个相同的缓震支撑腿，加热机构右侧设有抽真空设备，抽真空设备上端固定连接圆形真空反应罐，通过设置沉积台，利用加热机构对导热柱进行加热，从而使得发生台上温度上升，沉积复合片上沉积效率升高，而且将沉积复合片竖直放置，确保正反两面均可以生长晶体，还设置了缓震支撑腿来实现沉积效率高，缓震效果好，密封性能佳，安全系数高。
专利主权项内容
1.一种CVD金刚石化学气相沉积机构，其特征在于：包括
圆形真空反应罐(1)，所述圆形真空反应罐(1)后端设有进气管(2)，且圆形真空反应罐(1)下端固定连接支撑架(3)，所述支撑架(3)前后侧下端均匀固定连接支撑柱(31)，所述支撑柱(31)下端固定连接矩形框(32)，所述矩形框(32)前后侧下端均匀设有支撑脚(33)；
圆形真空反应罐(1)，所述圆形真空反应罐(1)为夹层结构，且圆形真空反应罐(1)侧边均匀开设有活动密封孔(11)，所述圆形真空反应罐(1)内部中心位置设有沉积台(4)，所述沉积台(4)下端设有加热机构(5)，所述加热机构(5)设置在圆形真空反应罐(1)下端中部，且所述圆形真空反应罐(1)下端均匀设有三个相同的缓震支撑腿(6)，且所述加热机构(5)右侧设有抽真空设备(7)，所述抽真空设备(7)上端固定连接圆形真空反应罐(1)。。