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一种硅基样品划片装置
申请人信息
- 申请人:武汉理工大学
- 申请人地址:430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
- 发明人: 武汉理工大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种硅基样品划片装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420674168.X |
| 申请日 | 2024/4/2 |
| 公告号 | CN222232147U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | G01N1/28 |
| 权利人 | 武汉理工大学 |
| 发明人 | 洪建勋 |
| 地址 | 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 |
摘要文本
武汉理工大学取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型的技术方案提供一种硅基样品划片装置,包括样品平台、刻头组件、线性驱动件以及显微镜;刻头组件包括伸缩件、压力传感器和刻划头,所述刻划头设置在伸缩件的活动端,所述压力传感器设置在所述刻划头与伸缩件之间,用于检测刻划头的刻划压力;线性驱动件其安装在样品平台上方,且活动端与所述刻头组件连接,用于驱动刻头组件进行线性移动。本实用新型通过刻头组件和线性驱动件的配合,可控施压压力,并具有线性导向的进行划片,刻划方向稳定,划线成功率高,避免了施压压力过大导致的硅基样品破裂,再配合显微镜,以其上的标线,便于对刻线位置进行校准定位和监视整个刻划过程,便于控制划片的位置精度。
专利主权项内容
1.一种硅基样品划片装置,其特征在于,包括:
样品平台;
刻头组件,其包括伸缩件、压力传感器和刻划头,所述刻划头设置在伸缩件的活动端,所述压力传感器设置在所述刻划头与伸缩件之间,用于检测刻划头的刻划压力;
线性驱动件,其安装在样品平台上方,且活动端与所述刻头组件连接,用于驱动刻头组件进行线性移动;以及
显微镜,其通过架体与所述线性驱动件滑动连接,并与所述刻划头相对,所述显微镜的镜头上设置有标线,用于刻线位置校准与定位。