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一种高压清洗装置
申请人信息
- 申请人:上海博纳微电子设备有限公司
- 申请人地址:200120 上海市浦东新区秀浦路3999号12栋2楼(西门)
- 发明人: 上海博纳微电子设备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种高压清洗装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420922058.0 |
| 申请日 | 2024/4/29 |
| 公告号 | CN222198074U |
| 公开日 | 2024/12/20 |
| IPC主分类号 | B08B3/02 |
| 权利人 | 上海博纳微电子设备有限公司 |
| 发明人 | 徐志先; 刘亮; 任凯; 蒋萍燕 |
| 地址 | 上海市浦东新区秀浦路3999号12栋2楼(西门) |
摘要文本
上海博纳微电子设备有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型涉及电子半导体技术领域,且公开了一种高压清洗装置,包括清洗壳体和支撑部件,支撑部件设置在清洗壳体的顶部;所述清洗壳体的顶部固定安装有清洗管道,清洗管道的另一端固定安装有过滤器,过滤器的左侧连接有旋转摆臂,旋转摆臂的左侧连接有泄压阀,所述旋转摆臂和泄压阀之间清洗管道的顶部安装有高压喷嘴;支撑部件包括固定支架,固定支架固定安装在旋转摆臂的外表面。该高压清洗装置,通过增加高压泵出口处的压力,减少氮气使用量,便于长期以后节约成本,同时高压清洗对后面的药液清洗过程产生少量的颗粒物,对回收的药液性质减少,提高药液使用率,且高压清洗提升产品的清洗效率,提升50%以上效率。
专利主权项内容
1.一种高压清洗装置,包括清洗壳体(1)和支撑部件,支撑部件设置在清洗壳体(1)的顶部;
其特征在于:所述清洗壳体(1)的右侧开设有进液管(2),所述清洗壳体(1)的顶部固定安装有清洗管道(3),所述清洗管道(3)的另一端固定安装有过滤器(5),所述过滤器(5)的左侧连接有旋转摆臂(6),所述旋转摆臂(6)的左侧连接有泄压阀(7),所述旋转摆臂(6)和泄压阀(7)之间清洗管道(3)的顶部安装有高压喷嘴(8);
支撑部件包括固定支架(9),所述固定支架(9)固定安装在旋转摆臂(6)的外表面,所述固定支架(9)的右侧设置有与过滤器(5)相固定连接的固定螺栓(10)。