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晶圆检测的聚焦系统、晶圆检测系统及聚焦方法

申请号: CN202311633188.9
申请人: 魅杰光电科技(上海)有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 晶圆检测的聚焦系统、晶圆检测系统及聚焦方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311633188.9
申请日 2023/11/30
公告号 CN117672914A
公开日 2024/3/8
IPC主分类号 H01L21/67
权利人 魅杰光电科技(上海)有限公司
发明人 李二朋; 汤庚
地址 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区海洋一路333号1号楼、2号楼

摘要文本

魅杰光电科技(上海)有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术,一种晶圆检测的聚焦系统、晶圆检测系统及聚焦方法,所述晶圆检测的聚焦系统包括:移动装置,以及设置于所述移动装置上的多个光路组件,所述多个光路组件对晶圆上待测对象的放大倍数均不同;其中,所述移动装置,用于多次调整所述多个光路组件中的光路组件与晶圆上待测对象的距离,以获取晶圆上待测对象的成像信息;其中,一次调整所述多个光路组件中的至少一个光路组件与晶圆上待测对象的距离,光路组件与晶圆上待测对象的不同距离对应晶圆上待测对象不同精度的成像信息。采用本发明技术方案,实现了一机多功能,同时能检测不同尺寸的待测对象,扩大检测范围,也能提高检测精度,具有很高的性价比。。专利查询网

专利主权项内容

1.一种晶圆检测的聚集系统,其特征在于,包括:移动装置,以及设置于所述移动装置上的多个光路组件,所述多个光路组件对晶圆上待测对象的放大倍数均不同;其中,所述移动装置,用于多次调整所述多个光路组件中的光路组件与晶圆上待测对象的距离,以获取晶圆上待测对象的成像信息;其中,一次调整所述多个光路组件中的至少一个光路组件与晶圆上待测对象的距离,光路组件与晶圆上待测对象的不同距离对应晶圆上待测对象不同精度的成像信息。 微信公众号马克 数据网