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一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法
申请人信息
- 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址:621999 四川省绵阳市绵山路64号
- 发明人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202310829284.4 |
| 申请日 | 2023/7/6 |
| 公告号 | CN117470814A |
| 公开日 | 2024/1/30 |
| IPC主分类号 | G01N21/64 |
| 权利人 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 发明人 | 樊非; 卓瑾; 金会良; 潘峰; 朱玉洁; 邓雪然; 耿锋; 刘志超 |
| 地址 | 四川省绵阳市绵山路64号 |
摘要文本
中国工程物理研究院激光聚变研究中心取得“一种透气窗帘布”专利技术，本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。。专利查询网
专利主权项内容
1.一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，其特征在于，包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据所述全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对所述关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，所述荧光缺陷特征图包含所述关注缺陷的荧光缺陷特征；对所述光学晶体上对应所述关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对所述荧光缺陷特征和所述损伤性能测试数据进行关联计算，得到所述荧光缺陷特征与所述损伤性能之间的关联关系。 来自马-克-数-据