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一种非匀质含水层自净式地下水铬污染去除系统和方法

申请号: CN202311736540.1
申请人: 安徽环境科技集团股份有限公司; 先进环境技术有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种非匀质含水层自净式地下水铬污染去除系统和方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311736540.1
申请日 2023/12/15
公告号 CN117486354A
公开日 2024/2/2
IPC主分类号 C02F3/00
权利人 安徽环境科技集团股份有限公司; 先进环境技术有限公司
发明人 孔殿超; 张青; 张强; 金松; 方降龙; 董献彬; 张勋; 杨阳
地址 安徽省合肥市高新区大别山路699号; 澳大利亚维多利亚

摘要文本

本发明属于地下水污染治理技术领域,涉及一种非匀质含水层自净式地下水铬污染去除系统和方法。针对地下水铬污染治理时常面临的流场分布不均及原位修复技术施用时修复材料易钝化的问题,本申请提供非匀质含水层自净式地下水铬污染去除系统,包括反应井和抽注井,井内分别设置阴极模块和阳极模块;反应井的内腔嵌套设置第一隔板和第二隔板,形成清洁区和反应区,底部分别设置第一提拉底盘和第二提拉底盘;第二隔板上设置摩擦部,上方设有再生填料回流口,下方设有钝化填料排出口。本申请将生物电化学法和吸附法相结合,显著提高了铬污染修复效果,通过自净装置构建实现了吸附材料的原位活化,解决了材料钝化问题,可大幅降低填料更换成本。

专利主权项内容

1.一种非匀质含水层自净式地下水铬污染去除系统,其特征在于:包括反应井(1)和抽注井(16);所述反应井(1)内设有阴极模块(18),所述抽注井(16)内设有阳极模块(17);所述反应井(1)侧壁底部设置渗水孔(9);所述反应井(1)的内腔嵌套设置第一隔板(2)和第二隔板(3),在所述内腔中形成清洁区(19)和反应区(20);所述清洁区(19)和反应区(20)底部分别设置第一提拉底盘(4)和第二提拉底盘(5),所述第一提拉底盘(4)和第二提拉底盘(5)设有渗水部;所述第二隔板(3)上设置摩擦部(8),所述摩擦部(8)上方设有再生填料回流口(6),所述摩擦部(8)下方设有钝化填料排出口(7);所述再生填料回流口(6)和钝化填料排出口(7)均设置单向阀(11),所述再生填料回流口(6)的单向阀(11)开向所述反应区(20),所述钝化填料排出口(7)的单向阀(11)开向所述清洁区(19)。