曝光调试装置、系统及方法

专利主权项内容

1.一种曝光调试系统，其特征在于，所述曝光调试系统包括曝光调试装置，所述曝光调试装置包括依次设置的光源组件、调试阻隔组件、透镜组件、光罩组件、投影组件及用于放置晶圆的承载组件，所述曝光调试装置还包括控制器；所述调试阻隔组件包括阻隔盒、第一驱动机构及固定机构；所述阻隔盒具有多个上下贯通的水平插片槽，每个所述水平插片槽滑动安装有具有不同过滤波段的滤光片，所述滤光片一侧通过所述固定机构可拆卸地固定在所述第一驱动机构的活动端上，所述第一驱动机构用于驱动与之固定连接的滤光片在所述水平插片槽中滑动；所述控制器用于根据曝光条件控制所述固定机构选择所述滤光片固定在所述第一驱动机构的活动端上；所述控制器还用于控制所述第一驱动机构驱动与之固定连接的滤光片滑动至水平插片槽内侧以产生相应的曝光光线来对所述晶圆进行曝光处理；所述曝光调试装置还包括偏转组件，所述偏转组件用于驱动所述承载组件偏转，所述晶圆的放置中心与光源组件产生的光源的中心线偏心设置；所述控制器还用于根据与曝光条件匹配的曝光位置信息控制所述偏转组件驱动所述承载组件偏转来改变所述曝光光线的投射位置；所述光罩组件和投影组件之间设有可更换的、高度可调的视场光阑；所述曝光调试装置还包括遮挡板和第二驱动机构，所述遮挡板设置在所述调试阻隔组件下方，且由所述第二驱动机构驱动水平滑动；所述控制器还用于在非需要进行曝光处理时，控制所述第二驱动机构驱动所述遮挡板滑动以屏蔽投射在所述晶圆上的曝光光线；所述遮挡板为倾斜设置，且顶面设有反射面，所述曝光调试装置还包括光线检验组件；所述光线检验组件设于所述调试阻隔组件一侧，用于接收所述反射面产生的反射光线并检测所述反射光线的波长信息；所述控制器还用于根据所述波长信息分析所述曝光光线是否与曝光条件匹配；所述控制器还用于在所述曝光光线与曝光条件匹配且需要进行曝光处理时，控制所述第二驱动机构驱动所述遮挡板复位。