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改性聚丙烯酸树脂及其制备方法和光刻胶
申请人信息
- 申请人:广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
- 申请人地址:510700 广东省广州市黄埔区连云路388号
- 发明人: 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 改性聚丙烯酸树脂及其制备方法和光刻胶 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311749194.0 |
| 申请日 | 2023/12/19 |
| 公告号 | CN117417476B |
| 公开日 | 2024/3/26 |
| IPC主分类号 | C08F220/06 |
| 权利人 | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 |
| 发明人 | 陈荣; 孙友松; 赵环宇; 王晓川; 黄昭雯; 方金煌; 劳浩胜; 梁振辉; 但露萍; 叶文列; 刘春阳 |
| 地址 | 广东省广州市黄埔区连云路388号 |
摘要文本
本发明涉及光刻胶技术领域，特别涉及一种改性聚丙烯酸树脂及其制备方法和光刻胶。改性聚丙烯酸树脂包括具有式I所示的结构单元、具有式II所示的结构单元、具有式III所示的结构单元、具有式IV所示的结构单元和具有式V所示的结构单元。上述改性聚丙烯树脂可作为负性电镀掩膜光刻胶中的成膜树脂，经过显影后，掩膜层可呈现出顶部开口小而底部开口大的沟槽图形，如此，后续通过电镀可在沟槽内形成剖面为正梯形的铜栅线，去除掩膜层时，去胶液易于扩散进入铜栅线周围的掩膜层，去胶残留小。
专利主权项内容
1.一种改性聚丙烯酸树脂，其特征在于，包括具有式I所示的结构单元、具有式II所示的结构单元、具有式III所示的结构单元、具有式IV所示的结构单元和具有式V所示的结构单元：
；式I选自式I-1或式I-2：
；其中，R选自C烯基、-CHOR或-CHOC(O)R；11-621a21aR选自C烯基；1a1-6R选自H或C烷基；21-3R每次出现时，独立地选自H或C烷基；31-3R选自C烯基；41-3R选自C烷基或以下取代基中的一种：51-6
；R选自H或C烷基；61-3m、r、q、n和p表示摩尔份数，满足以下条件：1)m、n、p和q的比例为5 : (0.5~2) : (2~4) : (0.5~2)；2)r占m、n、p和q的总和的2%~6%。