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光学物镜下掩膜版清晰成像方法、系统
申请人信息
- 申请人:深圳清溢微电子有限公司
- 申请人地址:518000 广东省深圳市南山区西丽街道松坪山社区朗山二路8号清溢光电大楼501
- 发明人: 深圳清溢微电子有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 光学物镜下掩膜版清晰成像方法、系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311484043.7 |
| 申请日 | 2023/11/8 |
| 公告号 | CN117608169A |
| 公开日 | 2024/2/27 |
| IPC主分类号 | G03F7/20 |
| 权利人 | 深圳清溢微电子有限公司 |
| 发明人 | 郝明毅 |
| 地址 | 广东省深圳市南山区西丽街道松坪山社区朗山二路8号清溢光电大楼501 |
摘要文本
深圳清溢微电子有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本发明公开了一种光学物镜下掩膜版清晰成像方法、系统，该方法包括：采用100x及以上高倍光学物镜采集光刻掩膜版的图像，并对所述光刻掩膜版的图像进行锐化处理；将锐化处理后的所述光刻掩膜版的图像与优化数据库中对应的电镜图样进行拟合，获取所述光刻掩膜版的图像与所述电镜图样之间的相对差值；根据所述相对差值对锐化处理的所述光刻掩膜版的图像进行优化处理，输出所述光刻掩膜版的清晰图像。该方法实现清晰的成像效果, 可以直观地进行边缘波浪的观察, 清晰度高；不用电镜的情况下, 大致了解最终生成图像各方面特性；且成本低, 对于早期I C开发, 可部分替代电镜作观察。 数据由马 克 团 队整理
专利主权项内容
1.一种光学物镜下掩膜版清晰成像方法，其特征在于，所述方法包括：采用100x及以上高倍光学物镜采集光刻掩膜版的图像，并对所述光刻掩膜版的图像进行锐化处理；将锐化处理后的所述光刻掩膜版的图像与优化数据库中对应的电镜图样进行拟合，获取所述光刻掩膜版的图像与所述电镜图样之间的相对差值；根据所述相对差值对锐化处理的所述光刻掩膜版的图像进行优化处理，输出所述光刻掩膜版的清晰图像。