一种铝合金PVD流化工艺

专利主权项内容

1.一种铝合金PVD流化工艺，其特征是：包括以下步骤步骤一，开启上端盖，将螺旋导流工作台吊出真空溅射室，将预清洗好的铝合金基材工件安放在螺旋叶片挂架上，接下来将螺旋导流工作台放置到真空溅射室内，上端盖与真空溅射室合拢密封，捡漏检测后启动真空系统；步骤二，待真空溅射室内真空度到达0.1～1.0Pa后通入惰性气体氩气并控制流量在50-200ml/s，待真空溅射室内真空度到达266～399Pa时将等离子体放电器引燃放电，此时阴极靶材负偏压为600V，等离子体放电器释放的电子在电场作用下加速飞离阴极靶材，与氩原子发生碰撞电离出氩正离子，氩正离子在电场作用下被加速，飞向阴极靶材，并轰击靶材表面，使靶材产生溅射，在阴极靶材后安装环形永久磁铁，使得电场与磁场为正交状态，那么将在靶材表面形成弧形封闭磁力线，因此靶材表面溅射出来二次电子，受到靶极附近区域磁场的洛伦兹力的约束作用，在靶材表面附近围绕磁力线作回旋运动，使其行程大大增加，因而大大增加了与氩原子的碰撞几率，提供足够数量的氩正离子源源不断地轰击阴极靶材，形成的等离子区并持续辉光放电，控制真空溅射室内温度在100℃范围内，对铝合金基材工件进行持续时间为10-15min的辉光清洗；步骤三：根据镀膜设计需要可通过工艺气体管口向真空溅射室内注入工作气体氮气、氢气，真空溅射室内真空度调节399-532Pa，阴极靶材负偏压为50-150V，由于惰性气体与工作气体的压力增加，从靶材溅射出来的中性靶材原子形成的气相粒子与气体分子间的碰撞几率大大增加，不再是直线运动状态而变成散射状态，膜沉积时间为4～8h，并保持真空溅射室内温度在100℃范围内，可获得多层镀膜。