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单晶金刚石外延片及其制备方法

申请号: CN202311636178.0
申请人: 深圳平湖实验室
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 单晶金刚石外延片及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311636178.0
申请日 2023/11/30
公告号 CN117535793A
公开日 2024/2/9
IPC主分类号 C30B29/04
权利人 深圳平湖实验室
发明人 崔新春; 万玉喜; 胡浩林; 曾威
地址 广东省深圳市龙岗区平湖街道中科亿方智汇产业园12栋

摘要文本

深圳平湖实验室取得“一种透气窗帘布”专利技术,本公开提供了一种单晶金刚石外延片及其制备方法、金刚石外延层生长用基片及单晶金刚石基板的制备方法,涉及半导体材料技术领域,旨在解决现有的单晶金刚石基板杂质多且表面粗糙度高的问题。单晶金刚石外延片包括:籽晶层和生长于所述籽晶层上的至少一组叠层结构,所述叠层结构包括:沿第一方向层叠设置的掺杂层和外延层,所述掺杂层的材料为包含第一杂质的单晶金刚石,所述第一杂质在所述掺杂层中是替位式杂质,所述外延层的材料包括单晶金刚石;其中,所述第一方向为垂直于所述籽晶层且远离所述籽晶层的方向。上述单晶金刚石外延片用于制备的单晶金刚石基板。 专利查询网

专利主权项内容

1.一种单晶金刚石外延片,其特征在于,包括:籽晶层;生长于所述籽晶层上的至少一组叠层结构,所述叠层结构包括:沿第一方向层叠设置的掺杂层和外延层,所述掺杂层的材料为包含第一杂质的单晶金刚石,所述第一杂质在所述掺杂层中是替位式杂质,所述外延层的材料包括单晶金刚石;其中,所述第一方向为垂直于所述籽晶层且远离所述籽晶层的方向。