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一种光Fenton引发的RAFT聚合方法
申请人信息
- 申请人:南京工业大学
- 申请人地址:210000 江苏省南京市鼓楼区新模范马路5号
- 发明人: 南京工业大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光Fenton引发的RAFT聚合方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311521374.3 |
| 申请日 | 2023/11/15 |
| 公告号 | CN117467038A |
| 公开日 | 2024/1/30 |
| IPC主分类号 | C08F4/34 |
| 权利人 | 南京工业大学 |
| 发明人 | 景苏; 张希洋; 王晓露 |
| 地址 | 江苏省南京市江北新区浦珠南路30号 |
摘要文本
本发明属于高分子合成技术领域，涉及一种光Fenton引发的RAFT聚合方法。一种光Fenton引发的RAFT聚合方法，配置包括乙烯基单体、类Fenton试剂、链转移剂和溶剂的溶液聚合反应体系，在蓝光照射下进行聚合反应制备得到聚合物；所述类Fenton试剂为二茂铁衍生物和过氧化氢的混合物。本发明使用二茂铁衍生物和过氧化氢作为类Fenton试剂，成功在室温、水相、无需脱氧的条件下，实现RAFT聚合，该方法具有室温耐氧、绿色高效、精准可控的优点。 来自：
专利主权项内容
1.一种光Fenton引发的RAFT聚合方法，其特征在于，包括如下步骤：配置包括乙烯基单体、类Fenton试剂、链转移剂和溶剂的溶液聚合反应体系，在蓝光照射下进行聚合反应制备得到聚合物；所述类Fenton试剂为二茂铁衍生物和过氧化氢的混合物。