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一种钝化接触结构、多晶硅钝化接触电池及制备方法

申请号: CN202311810218.9
申请人: 江苏林洋太阳能有限公司
更新日期: 2026-03-10

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种钝化接触结构、多晶硅钝化接触电池及制备方法
专利类型 发明授权
申请号 CN202311810218.9
申请日 2023/12/27
公告号 CN117497643B
公开日 2024/3/26
IPC主分类号 H01L31/18
权利人 江苏林洋太阳能有限公司
发明人 沈东东; 王熠恒; 张颖; 刘金鑫; 施毅; 王玲
地址 江苏省南通市开发区广州路42号552室

摘要文本

本发明公开了一种钝化接触结构、多晶硅钝化接触电池及制备方法,该钝化接触结构中,电池背面为局域的钝化接触结构,可以降低光学损失,提高短路电流密度;背面的金属电极位于第一氧化层上,第一氧化层具有相对更高致密性、厚度厚的特点,在烧结的过程中可以避免金属电极形成“金属穿刺”,相比于常规的结构,降低了金属接触区域的复合,可以提高开路电压;相比于常规结构中整面的隧穿氧化层,背面第二氧化层为局域的隧穿氧化层,虽然面积占比降低,但对于载流子的收集影响较小,仅会导致填充因子的略微降低,进而可以用于多晶硅钝化接触电池中,将使电池具有更高的转换效率。

专利主权项内容

1.一种钝化接触结构的制备方法,其特征在于,该制备方法包括:提供一硅片,该硅片的背表面包括金属接触区域和非金属接触区域,所述金属接触区域由第一区域、设置在所述第一区域的周侧的第二区域构成;在所述第一区域设置第一氧化层,在所述第二区域设置第二氧化层;其中,所述第二氧化层为隧穿氧化层,所述第一氧化层的材质与所述隧穿氧化层的材质不同,且所述第一氧化层的密实度大于所述隧穿氧化层的密实度,所述第一氧化层的厚度大于所述隧穿氧化层的厚度;在所述第一氧化层与所述隧穿氧化层上设置磷掺杂晶硅层,该磷掺杂晶硅层包含多硅晶相、非晶硅相和微晶硅相;进行退火处理,所述磷掺杂晶硅层转化为磷掺杂多晶硅层。