一种镀膜雾化精准控制方法及系统

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本发明涉及半导体镀膜技术领域，更具体地，涉及一种镀膜雾化精准控制方法及系统。该方案包括设置药液雾化腔室的结构；设置离子镀膜腔室的结构；获取当前周期的发热丝的温度设定值和药液的流量设定值，进行雾化过程控制；在等离子镀膜腔室内在产品表面形成膜层；设置PID参数确定下一个周期的温度设定值和流量设定值；在下一个控制周期中，使用下一个周期的温度设定值和流量设定值进行温度和流量控制。该方案过设置精密控制输出雾化浓度的模块，利用特定的内部结构设计，特定的加热曲线及气体流量控制，解决了膜层厚度一致的需求。