一种微米级石英薄膜制备装置及其制备方法

专利主权项内容

1.一种微米级石英薄膜制备装置，其特征在于，所述制备装置包括：压力装置、石英管、顶端加热装置、运动控制装置、光耦合装置、光源装置及光谱采集装置；所述压力装置与所述石英管的第一端相连接，所述石英管的第二端置于所述顶端加热装置内，所述顶端加热装置用于向所述石英管的第二端进行加热处理，使所述石英管的第二端受热熔融封闭，所述压力装置向第二端受热熔融封闭的石英管的第一端进行加压处理，同时所述顶端加热装置向石英管的受热熔融封闭的一端进行加热处理，形成包含球形薄膜结构的石英管；所述运动控制装置的第一端与包含球形薄膜结构的石英管的侧端夹持连接，所述运动控制装置的第二端与所述光耦合装置的第一端夹持连接，所述运动控制装置用于控制包含球形薄膜结构的石英管的侧端与所述光耦合装置的第一端水平对齐，以形成法布里-珀罗干涉仪，其中，所述侧端为球形薄膜结构的顶端，所述法布里-珀罗干涉仪包括所述侧端、所述光耦合装置的第一端、及之间的立体空间；所述光耦合装置的第二端与所述光源装置相连接，所述光耦合装置的第三端与所述光谱采集装置相连接，所述光源装置向所述光耦合装置发射光源，所述光源经过所述光耦合装置的第二端导入所述法布里-珀罗干涉仪内，在被所述侧端的薄膜反射后，形成光谱，所述光谱返回所述光耦合装置内，并经过所述光耦合装置的第三端传送至所述光谱采集装置，所述光谱采集装置对所述光谱进行分析处理，确定所述侧端的薄膜的厚度，将满足预设厚度条件的侧端的薄膜确定为所述微米级石英薄膜。