一种具有排屑结构的纳米晶磁芯上料设备
申请人信息
- 申请人:深圳市普乐华科技有限公司
- 申请人地址:518107 广东省深圳市光明区公明街道李松蓢社区宝安区公明街道李松蓢社区厂房1栋101通洲工业园E栋(一照多址企业)
- 发明人: 深圳市普乐华科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种具有排屑结构的纳米晶磁芯上料设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410070104.3 |
| 申请日 | 2024/1/17 |
| 公告号 | CN117699400A |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | B65G47/14 |
| 权利人 | 深圳市普乐华科技有限公司 |
| 发明人 | 昌赛; 赵宇; 刘辉东; 闫军; 戴鑫; 吕乾坤 |
| 地址 | 广东省深圳市光明区公明街道李松蓢社区宝安区公明街道李松蓢社区厂房1栋101通洲工业园E栋(一照多址企业) |
摘要文本
本申请涉及供料设备的领域，尤其是涉及一种具有排屑结构的纳米晶磁芯上料设备，其包括振动底座，振动底座上设置有上料振动盘，上料振动盘相邻一侧设置有上料平台，上料平台与上料振动盘之间设置有送料轨道，送料轨道包括第一排屑部、第二排屑部和第三排屑部，第三排屑部远离第一排屑部一侧设置有除屑机构，上料平台上设置有吹气机构；送料轨道将纳米晶磁芯从上料振动盘运输至上料平台，纳米晶磁芯上的末屑依次通过第一排屑槽、第二排屑槽和第三排屑槽后被除屑机构吸收，纳米晶磁芯运输至上料平台时，通过吹气机构去除附着于纳米晶磁芯上的末屑。本申请具有在上料过程中提高对纳米晶磁芯除屑效率的效果。
专利主权项内容
1.一种具有排屑结构的纳米晶磁芯上料设备，其特征在于，包括振动底座(1)，所述振动底座(1)上设置有上料振动盘(2)，所述上料振动盘(2)相邻一侧设置有上料平台(3)，所述上料平台(3)与所述上料振动盘(2)之间设置有送料轨道(4)，所述送料轨道(4)包括第一排屑部(5)、第二排屑部(6)和第三排屑部(7)，所述第二排屑部(6)设置于所述第一排屑部(5)和第二排屑部(6)之间，所述第一排屑部(5)上设置有若干个相互平行的第一排屑槽(8)，所述第二排屑部(6)设置有若干个与所述第一排屑槽(8)连通的第二排屑槽(9)，所述第二排屑槽(9)的直径等于所述第一排屑槽(8)的宽度，所述第三排屑部(7)远离所述第一排屑部(5)一侧设置有若干个相互平行的第三排屑槽(10)，所述第三排屑槽(10)的宽度等于所述第二排屑槽(9)的直径，所述第三排屑部(7)远离所述第一排屑部(5)一侧设置有除屑机构(11)，所述上料平台(3)上设置有吹气机构(12)；所述送料轨道(4)将纳米晶磁芯从所述上料振动盘(2)运输至所述上料平台(3)，纳米晶磁芯上的末屑依次通过所述第一排屑槽(8)、所述第二排屑槽(9)和所述第三排屑槽(10)后被所述除屑机构(11)吸收，纳米晶磁芯运输至所述上料平台(3)时，通过所述吹气机构(12)去除附着于纳米晶磁芯上的末屑。