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一种液相法高效生长碳化硅单晶系统及其工作方法

申请号: CN202410112396.2
申请人: 常州臻晶半导体有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种液相法高效生长碳化硅单晶系统及其工作方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410112396.2
申请日 2024/1/26
公告号 CN117626407A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 C30B15/00
权利人 常州臻晶半导体有限公司
发明人 柯尊斌; 陆敏; 王晗; 吴信杠; 王欣
地址 江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区武宜南路377号19号厂房一层东

摘要文本

本发明涉及晶体生长技术领域,具体涉及一种液相法高效生长碳化硅单晶系统及其工作方法;本发明提供了一种液相法高效生长碳化硅单晶系统,包括:坩埚、提拉杆、籽晶层和清理稳定部,所述提拉杆垂直固定在籽晶层上,所述提拉杆适于驱动籽晶层插入坩埚内;所述清理稳定部固定在坩埚上方,所述清理稳定部与提拉杆和子晶层联动;其中,清理稳定部的外活动端向下移动,清理稳定部的内活动端适于与籽晶层底壁抵接;清理稳定部的内活动端自内向外翻转的过程中,适于清理籽晶层下表面的灰尘;通过清理稳定部的设置,提高了籽晶层移动时的稳定性。

专利主权项内容

1.一种液相法高效生长碳化硅单晶系统,其特征在于,包括:坩埚(1)、提拉杆(2)、籽晶层(3)和清理稳定部(4),所述提拉杆(2)垂直固定在籽晶层(3)上,所述提拉杆(2)适于驱动籽晶层(3)插入坩埚(1)内;所述清理稳定部(4)固定在坩埚(1)上方,所述清理稳定部(4)与提拉杆(2)和子晶层联动;其中,清理稳定部(4)的外活动端向下移动,清理稳定部(4)的内活动端适于与籽晶层(3)底壁抵接;清理稳定部(4)的内活动端自内向外翻转的过程中,适于清理籽晶层(3)下表面的灰尘。