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一种芯片制造用晶圆加工装置

申请号: CN202410161965.2
申请人: 江苏华芯智造半导体有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种芯片制造用晶圆加工装置
专利类型 发明申请
申请号 CN202410161965.2
申请日 2024/2/5
公告号 CN117697553A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 B24B7/22
权利人 江苏华芯智造半导体有限公司
发明人 胡鑫; 乔岩; 张国良; 李勇涛
地址 江苏省徐州市睢宁县双沟镇临空大道1号

摘要文本

本发明公开了一种芯片制造用晶圆加工装置,包括底板,所述底板呈对称设置,所述底板上对称设有L形板,所述两个底板间设有真空吸附固定机构,所述底板上设有可调式打磨机构,所述真空吸附固定机构上方设有往复式增压清洗机构,所述真空吸附固定机构包括真空锁存装置和真空抽取装置,所述真空锁存装置设于真空抽取装置上,所述往复式增压清洗机构包括增压往复控制装置和往复式清洗装置,所述往复式清洗装置设于增压往复控制装置上;本发明属于半导体加工技术领域,解决了现有技术对晶圆进行打磨前的固定时,容易使晶圆受力破损,以及晶圆在打磨完成后再单独对表面进行清洗,使晶圆加工作业的工作量增大,生产效率降低的问题。

专利主权项内容

1.一种芯片制造用晶圆加工装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)呈对称设置,所述底板(1)上对称设有L形板(2),两个所述底板(1)间设有真空吸附固定机构(3),所述底板(1)上设有可调式打磨机构(4),所述真空吸附固定机构(3)上方设有往复式增压清洗机构(5),所述真空吸附固定机构(3)包括真空锁存装置(6)和真空抽取装置(7),所述真空锁存装置(6)设于真空抽取装置(7)上,所述往复式增压清洗机构(5)包括增压往复控制装置(8)和往复式清洗装置(9),所述往复式清洗装置(9)设于增压往复控制装置(8)上。