一种化学气相沉积设备的腔体结构
申请人信息
- 申请人:苏州耀德半导体有限公司
- 申请人地址:215000 江苏省苏州市苏州工业园区唯西路26号2号厂房101室
- 发明人: 苏州耀德半导体有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种化学气相沉积设备的腔体结构 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410103045.5 |
| 申请日 | 2024/1/25 |
| 公告号 | CN117626231A |
| 公开日 | 2024/3/1 |
| IPC主分类号 | C23C16/458 |
| 权利人 | 苏州耀德半导体有限公司 |
| 发明人 | 赖学明; 王江; 陈伟; 乔明明 |
| 地址 | 江苏省苏州市苏州工业园区唯西路26号2号厂房101室 |
摘要文本
本发明公开了一种化学气相沉积设备的腔体结构，涉及化学气相沉积设备技术领域，包括外箱体和固定连接在外箱体底部的底板，所述底板的一侧安装有水箱，所述外箱体的顶部安装有气体罐，还包括：进气管，安装在气体罐的底部，放置板，设置在外箱体的内部，所述外箱体的内部开设有分隔腔体，热丝装置，安装在外箱体的内顶面，腔体置物机构，设置在放置板的顶部，腔体密封机构，对称设置在外箱体的内底面，解决了在应对不同尺寸和形状的基材时，仍可能出现定位不稳，造成基材滑动的情况，进而对后续的化学反应生成薄膜造成阻碍，同时现有装置腔体结构之间的密封性较差，相邻腔体之间可能出现气体泄漏和相互影响的问题。
专利主权项内容
1.一种化学气相沉积设备的腔体结构，包括外箱体(1)和固定连接在外箱体(1)底部的底板(2)，所述底板(2)的一侧安装有水箱(3)，所述外箱体(1)的顶部安装有气体罐(4)，所述水箱(3)的一侧下部连接有进水管(7)，所述水箱(3)的一侧上部连接有排水管(8)；其特征在于，还包括：进气管(5)，安装在气体罐(4)的底部，且所述进气管(5)的底端与外箱体(1)的内部相连通，所述外箱体(1)的正面安装有箱门(6)；放置板(9)，设置在外箱体(1)的内部，所述外箱体(1)的内部开设有分隔腔体，所述分隔腔体不少于三个；热丝装置(10)，安装在外箱体(1)的内顶面，所述热丝装置(10)位于放置板(9)的上方；腔体置物机构，设置在放置板(9)的顶部，所述腔体置物机构包括对称设置的固定板(11)，所述固定板(11)的一侧固定连接有滑杆(12)，所述固定板(11)的一侧对称安装有电动推杆(13)，所述滑杆(12)的外侧滑动连接有滑座(14)，所述滑座(14)的一侧安装有夹板一(15)；所述滑座(14)的外侧对称固定有斜杆(23)，所述斜杆(23)的一侧连接有连接杆(24)，所述连接杆(24)远离斜杆(23)的一侧安装有夹板二(16)，所述斜杆(23)的中部固定连接有伸缩杆(25)，所述伸缩杆(25)远离斜杆(23)的一侧转动连接有辅助杆(26)，所述夹板一(15)的内部滑动连接有滑动杆(20)；腔体密封机构，对称设置在外箱体(1)的内底面，所述腔体密封机构包括隔板(31)，所述隔板(31)安装在外箱体(1)的内部，所述隔板(31)的内部滑动连接有密封板体(32)，所述外箱体(1)的内底面固定连接有底座(34)，所述底座(34)的内部开设有卡槽(33)。